Хіміко-механічне полірування Cd1-xMnxTe розчинами на основі Н2О2—HI—цитратна кислота

Денисюк, Р. О. (2014) Хіміко-механічне полірування Cd1-xMnxTe розчинами на основі Н2О2—HI—цитратна кислота. Фізика і хімія твердого тіла, 15 (1). с. 214-218. ISSN 1729-4428

[img]
Перегляд
Text
Download (329kB) | Перегляд

Опис

Досліджено процес хіміко-механічного полірування (ХМП) монокристалів CdTe та Cd1-xMnxTe (0,3< х <0,5) травниками системи НІ – Н2О2 – цитратна кислота. Визначено вплив природи в’язкого компоненту на швидкість і якість полірованої поверхні монокристалів. Розроблено режими ХМП для CdTe та твердих розчинів на його основі. Профілографічними та мікроструктурними аналізами досліджено стан полірованої поверхні та визначена її шорсткість.

Тип елементу : Стаття
Теми: Q Наука > QD Хімія
Підрозділи: Природничий факультет > Кафедра хімії
Користувач, що депонує: Олександр Сергійович Яценко
Дата внесення: 07 Квіт 2015 21:45
Останні зміни: 07 Квіт 2015 21:52
URI: http://eprints.zu.edu.ua/id/eprint/16813

Actions (login required)

Перегляд елементу Перегляд елементу