Хіміко-механічне полірування Cd1-xMnxTe розчинами на основі Н2О2—HI—цитратна кислота

Денисюк Р. О. (2014) Хіміко-механічне полірування Cd1-xMnxTe розчинами на основі Н2О2—HI—цитратна кислота. Фізика і хімія твердого тіла, 15 (1). С. 214–218. ISSN 1729-4428

[img]
Preview
Текст
Download (329kB) | Preview

Анотація

Досліджено процес хіміко-механічного полірування (ХМП) монокристалів CdTe та Cd1-xMnxTe (0,3< х <0,5) травниками системи НІ – Н2О2 – цитратна кислота. Визначено вплив природи в’язкого компоненту на швидкість і якість полірованої поверхні монокристалів. Розроблено режими ХМП для CdTe та твердих розчинів на його основі. Профілографічними та мікроструктурними аналізами досліджено стан полірованої поверхні та визначена її шорсткість.

Тип ресурсу: Стаття
Класифікатор: Q Наука > QD Хімія
Відділи: Природничий факультет > Кафедра хімії
Користувач: Олександр Сергійович Яценко
Дата подачі: 07 Квіт 2015 21:45
Оновлення: 07 Квіт 2015 21:52
URI: http://eprints.zu.edu.ua/id/eprint/16813

Actions (login required)

Оглянути опис ресурсу Оглянути опис ресурсу