Хіміко-механічне полірування Cd1-xMnxTe розчинами на основі Н2О2—HI—цитратна кислота

Денисюк, Р. О. (2014) Хіміко-механічне полірування Cd1-xMnxTe розчинами на основі Н2О2—HI—цитратна кислота. Фізика і хімія твердого тіла, 15 (1). pp. 214-218. ISSN 1729-4428

[img]
Preview
Text
Download (329kB) | Preview

Abstract

Досліджено процес хіміко-механічного полірування (ХМП) монокристалів CdTe та Cd1-xMnxTe (0,3< х <0,5) травниками системи НІ – Н2О2 – цитратна кислота. Визначено вплив природи в’язкого компоненту на швидкість і якість полірованої поверхні монокристалів. Розроблено режими ХМП для CdTe та твердих розчинів на його основі. Профілографічними та мікроструктурними аналізами досліджено стан полірованої поверхні та визначена її шорсткість.

Item Type: Article
Subjects: Q Science > QD Chemistry
Divisions: Faculty of Natural Sciences > Department of Chemistry
Depositing User: Олександр Сергійович Яценко
Date Deposited: 07 Apr 2015 21:45
Last Modified: 07 Apr 2015 21:52
URI: http://eprints.zu.edu.ua/id/eprint/16813

Actions (login required)

View Item View Item

Downloads

Downloads per month over past year

View more statistics