Measurement of Surface Recombination Velocity and Bulk Lifetime in Si Wafers by the Kinetics of Excess Thermal Emission

Zinovchuk A. V., Tkachenko A. K. (2011) Measurement of Surface Recombination Velocity and Bulk Lifetime in Si Wafers by the Kinetics of Excess Thermal Emission. Semiconductors, 45 (1). С. 61–65. ISSN 1063-7826

[img]
Preview
Текст
Download (209kB) | Preview
Тип ресурсу: Стаття
Класифікатор: Q Наука > QC Фізика
Відділи: Фізико-математичний факультет > Кафедра фізики та методики її навчання
Користувач: Богдан Володимирович Свищ
Дата подачі: 30 Бер 2016 13:14
Оновлення: 30 Бер 2016 13:14
URI: http://eprints.zu.edu.ua/id/eprint/20653

Actions (login required)

Оглянути опис ресурсу Оглянути опис ресурсу