Тімощук О. О., Чумак В. В.
ORCID: https://orcid.org/0000-0001-5892-3703, Євдоченко О. С.ORCID: https://orcid.org/0000-0001-6338-5372, Ходюк О. В.ORCID: https://orcid.org/0009-0008-9653-7641
(2026)
Рентгенівська фотоелектронна спектроскопія як метод контролю якості поверхні.
In: 4 Міжнародна науково-практична конференція «Innovative Research in Science and Economy», 1–3 квітня 2026 р., Брюссель, Бельгія.
С. 64–66.
DOI: 10.70286/isu-01.04.2026.
1.pdf
Завантажити (156kB) | Preview
Анотація
У статті розглядається рентгенівська фотоелектронна спектроскопія (XPS) як один із найсучасніших методів контролю якості поверхні матеріалів. Автори розкривають сутність методу, що базується на явищі зовнішнього фотоефекту, високу поверхневу чутливість (1–10 нм), можливості якісного та кількісного аналізу, а також визначення елементного складу, хімічного стану елементів, ступеня окиснення та типів хімічних зв’язків.
Показано широке практичне застосування XPS у матеріалознавстві, мікроелектроніці, аналізі корозії, каталізаторів та тонких плівок. Обговорено переваги, обмеження методу та сучасні тенденції його розвитку.
Зроблено висновок, що XPS є потужним інструментом детального дослідження поверхневого шару матеріалів.
| Тип ресурсу: | Доповідь на конференції або симпозіумі (Стаття) |
|---|---|
| Ключові слова: | рентгенівська фотоелектронна спектроскопія, XPS, контроль якості поверхні, поверхневий аналіз, матеріалознавство, хімічний стан елементів |
| Класифікатор: | Q Наука > QD Хімія |
| Відділи: | Природничий факультет > Кафедра хімії |
| Користувач: | Олександр Сергійович Яценко |
| Дата подачі: | 02 Квіт 2026 00:41 |
| Оновлення: | 02 Квіт 2026 01:00 |
| URI: | https://eprints.zu.edu.ua/id/eprint/47241 |
Дії (потрібно ввійти)
- Оглянути опис ресурсу