Рентгенівська фотоелектронна спектроскопія як метод контролю якості поверхні

У статті розглядається рентгенівська фотоелектронна спектроскопія (XPS) як один із найсучасніших методів контролю якості поверхні матеріалів. Автори розкривають сутність методу, що базується на явищі зовнішнього фотоефекту, високу поверхневу чутливість (1–10 нм), можливості якісного та кількісного аналізу, а також визначення елементного складу, хімічного стану елементів, ступеня окиснення та типів хімічних зв’язків.

Показано широке практичне застосування XPS у матеріалознавстві, мікроелектроніці, аналізі корозії, каталізаторів та тонких плівок. Обговорено переваги, обмеження методу та сучасні тенденції його розвитку.

Зроблено висновок, що XPS є потужним інструментом детального дослідження поверхневого шару матеріалів.