Саченко, А. В., Беляев, А. Е., Бобыль, А. В., Болтовец, Н. С., Иванов, В. Н., Капитанчук, Л. М., Конакова, Р. В., Кудрик, Я. Я., Миленин, В. В., Новицкий, С. В., Саксеев, Д. А., Тарасов, И. С., Шеремет, В. Н., Яговкина, М. А. (2012) Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов на основе соединения АIIIВV с высокой плотностью дислокаций. Физика и техника полупроводников, 46 (3). с. 348-355. ISSN 0015-3222
|
Text
Download (1MB) | Перегляд |
Опис
На основе теоретического анализа температурной зависимости контактного сопротивления ρc омических контактов к структурам n−n +−n ++-GaAs (аналогично к GaP-, GaN-, InP-структурам) предложен новый механизм роста ρc с повышением температуры измерения T, наблюдаемый экспериментально в диапазоне 100−400 K. Получено хорошее соответствие экспериментальных и теоретических зависимостей ρc(T), объясненное для случая высокой плотности дислокаций в приконтактной области полупроводника, на которых локализованы металлические шунты.
| Тип елементу : | Стаття |
|---|---|
| Теми: | Q Наука > QC Фізика T Технологія > TK Радіотехніка. Атомна енергетика |
| Підрозділи: | Фізико-математичний факультет > Кафедра фізики та методики її навчання |
| Користувач, що депонує: | С.В. Новицький |
| Дата внесення: | 03 Лют 2014 07:37 |
| Останні зміни: | 15 Серп 2015 05:39 |
| URI: | http://eprints.zu.edu.ua/id/eprint/10521 |
Actions (login required)
 |
Перегляд елементу |
